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GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站，設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
更新時(shí)間：2024-09-04
型號(hào)：GNP CEANER-412S
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
瀏覽量：214
GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站，設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：GNP CLEANER-412R廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：185
GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站，設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：GNP CLEANER-428L廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：158
GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站，設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，可清洗(8“~12”)晶圓。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：GNP CLEANER-812L廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：204
WaferStorm平臺(tái)是先進(jìn)封裝、MEMS、射頻、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和光子學(xué)市場(chǎng)中許多關(guān)鍵溶劑型工藝的行業(yè)選擇。有 2 個(gè)版本——手動(dòng)加載 （ML） 和 3300 系列平臺(tái)。ML系統(tǒng)非常適合研發(fā)和試驗(yàn)環(huán)境。3300 系列平臺(tái)是該行業(yè)的大批量主力軍。
更新時(shí)間：2024-09-06型號(hào)：3300系列廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：171
80 Plus 條形等離子清潔系統(tǒng)專(zhuān)為半導(dǎo)體加工而開(kāi)發(fā)，可支持手動(dòng)及自動(dòng)操作，兩種操作方式均簡(jiǎn)單易用。該系統(tǒng)可以配備或不配備裝卸站；此外，每個(gè)裝卸站都可支持不同的配置。即便沒(méi)有裝卸站，也可將其集成到生產(chǎn)線中。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：80 Plus廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：148
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