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等離子體沉積ALD AD-230LP是一種原子層沉積（ALD）系統(tǒng)，能夠在原子水平上控制薄膜厚度。有機(jī)金屬原料和氧化劑交替供給反應(yīng)室，僅通過(guò)表面反應(yīng)進(jìn)行薄膜沉積。該系統(tǒng)具有負(fù)載鎖定室，且不向大氣開(kāi)放反應(yīng)室，因此能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜沉積的優(yōu)良再現(xiàn)性。
更新時(shí)間：2024-09-06
型號(hào)：AD-230LP
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
瀏覽量：289
SENTECH SIPAR ICP沉積系統(tǒng)是為使用靈活的系統(tǒng)架構(gòu)的各種沉積模式和工藝開(kāi)發(fā)和設(shè)計(jì)的。該工具包括 ICP 等離子體源 PTSA、一個(gè)動(dòng)態(tài)溫控基板電極和一個(gè)受控的真空系統(tǒng)。該系統(tǒng)將等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 （PECVD） 和原子層沉積 （ALD） 結(jié)合在一個(gè)反應(yīng)器中。
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：SENTECH SIPAR ICP廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：269
SENTECH Depolab 200 是基本的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 （PECVD） 系統(tǒng)，適用于沉積用于蝕刻掩模、膜和電隔離膜以及許多其他材料的介電膜。
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：SENTECH Depolab 200廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：292
提供大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案，LED工業(yè)要求高產(chǎn)量，高器件質(zhì)量和低購(gòu)置成本。 PlasmaPro 1000更好地解決了這些需求。
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：PlasmaPro 1000廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：216
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開(kāi)式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開(kāi)式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究、原型設(shè)計(jì)和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過(guò)優(yōu)化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來(lái)實(shí)現(xiàn)高性能工藝。
更新時(shí)間：2024-09-06型號(hào)：PlasmaPro 80 PECVD廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：287
PlasmaPro 800 為大批量晶圓和 300mm 晶圓的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 （PECVD） 工藝提供了靈活的解決方案，它采用了緊湊的開(kāi)放式裝載系統(tǒng)?？蓪?shí)現(xiàn)大型晶圓大規(guī)模的批量生產(chǎn)和 300mm 晶圓處理。
更新時(shí)間：2024-09-06型號(hào)：PlasmaPro 800 PECVD廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：357
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