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  • CGS1218單晶爐

    直拉法晶體生長系統(tǒng)CGS1218單晶爐,專為符合半導(dǎo)體行業(yè)的嚴(yán)格要求而設(shè)計。該系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計,且可以配置鋼絲軟軸或硬軸。配合特殊的晶體軸配置能夠達(dá)到最高的精度,因此確保了提拉速度的線性可調(diào)和可重復(fù)性。

    更新時間:2024-09-05
    型號:CGS1218
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:248
  • Optium ASL-200高級研磨機(jī)

    使用 Veeco 的 Optium® ASL 200™ 研磨系統(tǒng)實現(xiàn)更高水平的控制和 TFMH 工藝產(chǎn)量。這種高精度硬盤頭研磨系統(tǒng)可大程度地控制關(guān)鍵薄膜尺寸,并且設(shè)計用于輕松集成到自動化后端處理中。

    更新時間:2024-09-04
    型號:Optium ASL-200
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:337
  • GNP POLI-PCB系列CMP

    G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運(yùn)用于研發(fā),操作簡單,成本低。

    更新時間:2024-09-04
    型號:GNP POLI-PCB系列
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:353
  • GNP POLI-610CMP

    GnP POLI-610專為藍(lán)寶石等復(fù)合晶圓的CMP工藝開發(fā)而設(shè)計。特別是該系統(tǒng)對于晶圓工藝開發(fā)具有較低的擁有成本,材料評估和生產(chǎn)前運(yùn)行。

    更新時間:2024-09-04
    型號:GNP POLI-610
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:312
  • GNP CEANER-412SCMP后清洗機(jī)

    GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機(jī)集成了兩個雙刷站,設(shè)計緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。

    更新時間:2024-09-04
    型號:GNP CEANER-412S
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:362
  • GNP CLEANER-412RCMP后清洗機(jī)

    GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機(jī)集成了兩個雙刷站,設(shè)計緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。

    更新時間:2024-09-04
    型號:GNP CLEANER-412R
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:362
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