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CIF勻膠機轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結(jié)構(gòu)緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

CIF掃描電鏡等離子清洗機采用遠程等離子清洗源設(shè)計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內(nèi)碳氫化合物的清洗。

CIF等離子去膠機 采用電感耦合各向同性（各個方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進行等離子體去膠。其外觀美學(xué)設(shè)計，結(jié)構(gòu)緊湊，漂亮大氣，優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計，使得處理樣品量更大，適用范圍更廣，性能更穩(wěn)定，操作更簡便，性價比更高，使用成本更低，實用性更強，更容易維護。

CIF推出RIE反應(yīng)離子刻蝕機，采用RIE反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)，科研院所、微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性價比高，易維護，處理快速高效。適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進行RIE反應(yīng)離子刻蝕。

CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客戶而設(shè)計的等離子體表面處理設(shè)備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場景。適用于等離子清洗，活化以及刻蝕等多種應(yīng)用，設(shè)備可在嚴苛環(huán)境下穩(wěn)定運行，產(chǎn)品性能穩(wěn)定，樣品處理重復(fù)性、一致性好。

全新CIF 實驗室型等離子清洗機并非傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計理念，可中試生產(chǎn)、模擬生產(chǎn)條件，幾乎具備等離子體清洗設(shè)備所有的功能。采用頂置真空倉，上開蓋下壓式鉸鏈開關(guān)方式，上置式360度自由取放樣品托盤設(shè)計，具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低，性價比高，處理快速高效，特別適合于大學(xué)，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。