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這款紫外臭氧清洗機，集成嵌入式控制系統(tǒng)，人性化設計，便捷高效，質量有保障，專業(yè)服務，是科研與實驗的理想伙伴。

LEBO science的PT500真空等離子清洗機，作為Plasma Treatment Equipment，具備以下顯著特點： 設備小巧，操作便捷：采用一鍵式操控設計，便于在科研院所等實驗環(huán)境中靈活使用。 環(huán)保無污染：使用過程中無環(huán)境污染，無需化學品消耗，且機臺本身不產生任何污染物。 高效清洗能力：能夠迅速達成所需的表面親水性，提升處理效率。 廣泛適用性與無損處理：應用廣泛，對處理產品無損傷

SUSS MicroTec為熱門化合物半導體工藝專門設計了一款新型光刻平臺：MA100/150e Gen2掩模對準光刻機?；衔锇雽w工藝，是指諸如高亮發(fā)光二極管（HB-LEDs）、功率器件、RF-MEMS等方面的半導體應用。MA100/150e Gen2具備高精度對準功能，上至0.7µm的光刻分辨率，擁有為易碎、翹曲或透明晶圓片定制的傳載系統(tǒng)等強大功能和配置。

MA200 3代掩模對準光刻機專為大批量生產而設計，適用于200毫米以下晶圓和方形襯底的自動化加工。本系統(tǒng)集全場光刻技術與多種創(chuàng)新功能于一身。使其成為眾多應用的優(yōu)秀系統(tǒng)，例如生產厚膠工藝MEMS、有凹凸圖形的 3D 結構以及先進封裝應用，如3D封裝、扇出封裝、凸點封裝及化合物半導體和圖像傳感器。

ELS-HAYATE是由ELIONIX研發(fā)的超高吞吐量電子束光刻機，提供業(yè)界大的 5 毫米偏轉。非常適合需要關注字段間拼接錯誤的應用。

ELS-BODEN是由ELIONIX開發(fā)的電子束光刻機，非常適合研究和開發(fā)！支持從高清繪圖到大電流高速繪圖的廣泛應用。