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Beneq TFS 200 是有史以來(lái)最靈活的原子層沉積研究平臺(tái)，專(zhuān)為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計(jì)。Beneq TFS 200 經(jīng)過(guò)專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)，可最大限度地減少多用戶(hù)研究環(huán)境中可能發(fā)生的任何交叉污染。 TFS 500 是薄膜鍍膜應(yīng)用的理想選擇。作為第一個(gè) Beneq 反應(yīng)器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩(wěn)健批處理的多功能工具。TFS 500 是多項(xiàng)目環(huán)境的理想工具。
更新時(shí)間：2024-09-05
型號(hào)：Beneq TFS 200/500
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
瀏覽量：506
Beneq P1500 是我們最大的原子層沉積系統(tǒng)，專(zhuān)門(mén)用于涂覆大型板材和復(fù)雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。我們的客戶(hù)將 P1500 用于大直徑基板上的光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用 ALD 的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：Beneq P1500廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：340
適用于硬偏置、引線、絕緣層和傳感器堆棧沉積 數(shù)據(jù)存儲(chǔ)制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 離子束沉積 （IBD） 系統(tǒng)大幅提高 80Gb/in2 傳感器的產(chǎn)量，并滿(mǎn)足未來(lái) TFMH 設(shè)備制造的需求。
更新時(shí)間：2024-09-06型號(hào)：NEXUS IBD廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：366
Beneq P800 專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用于涂覆復(fù)雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶(hù)將 P800 用于光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用 ALD 的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：Beneq P800廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：299
Beneq P400A 專(zhuān)為以?xún)?yōu)化的批量大小涂覆不同類(lèi)型的基材而設(shè)計(jì) - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環(huán)時(shí)間內(nèi)保持出色的均勻性。我們的客戶(hù)將 P400A 用于光學(xué)鍍膜和在玻璃或金屬板上使用 ALD 的應(yīng)用。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：Beneq P400A廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：273
光掩模制造需要高水平的顆粒控制，同時(shí)沉積復(fù)雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統(tǒng)可以應(yīng)對(duì)這一挑戰(zhàn)。自 1990 年代以來(lái)，Veeco 已成功服務(wù)于光掩模市場(chǎng)，多年的學(xué)習(xí)造就了當(dāng)今先進(jìn)的系統(tǒng)。IBD-LDD 系統(tǒng)是當(dāng)今 EUV 掩模坯料上的鉬 （Mo） 和硅 （Si） 多層沉積和釕 （Ru） 封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進(jìn)薄膜的掩模應(yīng)用。
更新時(shí)間：2024-09-06型號(hào)：NEXUS IBD-LDD廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：315
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