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簡要描述：光掩模制造需要高水平的顆?？刂?，同時沉積復(fù)雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統(tǒng)可以應(yīng)對這一挑戰(zhàn)。自 1990 年代以來，Veeco 已成功服務(wù)于光掩模市場，多年的學(xué)習(xí)造就了當(dāng)今先進的系統(tǒng)。IBD-LDD 系統(tǒng)是當(dāng)今 EUV 掩模坯料上的鉬 （Mo） 和硅 （Si） 多層沉積和釕 （Ru） 封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應(yīng)用。
產(chǎn)品型號：NEXUS IBD-LDD廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2024-09-06訪 問 量： 147產(chǎn)品分類
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1.產(chǎn)品概述：
NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研發(fā)的離子束沉積設(shè)備，VEECCO憑借25年來在離子束產(chǎn)品域建立導(dǎo)地位，實現(xiàn)當(dāng)下無缺陷的EUV掩模空白。
2.產(chǎn)品工藝：
光掩模制造需要高水平的顆粒控制，同時沉積復(fù)雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。Veeco的NexusIBD-LDD離子束沉積系統(tǒng)可以應(yīng)對這一挑戰(zhàn)。自1990年代以來，Veeco已成功服務(wù)于光掩模市場，多年的學(xué)習(xí)造就了當(dāng)先進的系統(tǒng)。IBD-LDD系統(tǒng)是當(dāng)EUV掩模坯料上的鉬（Mo）和硅（Si）多層沉積和釕（Ru）封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應(yīng)用。
3.產(chǎn)品優(yōu)勢：
經(jīng)過生產(chǎn)驗證的平臺
低的缺陷密度
優(yōu)異的均勻性和可重復(fù)性
高反射率
在同一腔室中沉積多種材料
可以集成到其他過程模塊中，集成到集群工具中
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