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簡要描述:多角度激光橢偏儀 SE 400adv PV 在 HeNe 激光波長為 632.8 nm 時,在紋理單晶和多晶硅片上提供抗反射單膜的膜厚度和折射率??筛鼡Q晶圓支架允許在多晶硅片和堿性紋理單晶硅片上進行測量。
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1. 產(chǎn)品概述
多角度激光橢偏儀 SE 400adv PV 在 HeNe 激光波長為 632.8 nm 時,在紋理單晶和多晶硅片上提供抗反射單膜的膜厚度和折射率??筛鼡Q晶圓支架允許在多晶硅片和堿性紋理單晶硅片上進行測量。
2. 主要功能與優(yōu)勢
粗糙表面分析
高靈敏度和超低噪聲檢測允許在非理想的、引起雜散光的表面上進行測量,這些表面是紋理化單晶硅和多晶硅太陽能電池的典型特征。
非凡的準確性
由于穩(wěn)定的激光光源、溫度穩(wěn)定的補償器設置和超低噪聲檢測器,SENTECH SE 400adv PV 激光橢偏儀的主要特點是具有非凡的高穩(wěn)定性和準確性。
精密涂層評估
SENTECH SE 400adv PV激光橢偏儀可以特別分析SiN涂層x、ITO、TiO2和SiO的薄鈍化層2和 Al2O3.可以在光滑的基板上分析雙層堆疊。
該工具是一款緊湊的儀器,可快速啟動和運行。SENTECH易于使用,以配方為導向的軟件包括一個全面的預定義應用程序包,可滿足生產(chǎn)環(huán)境中的研發(fā)和質量控制要求。
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