歡迎來到深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司網(wǎng)站！歡迎來到深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司網(wǎng)站！
當(dāng)前位置：首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 4 外延系統(tǒng)
產(chǎn)品分類
Product Category相關(guān)文章
Related Articles
產(chǎn)品概述： 超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進樣室）、樣品傳遞機構(gòu)、樣品架、立式旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、抽氣系統(tǒng)、真空測量、工作氣路、電控系統(tǒng)、計算機控制等各部分組成。 設(shè)備用途： 脈沖激光沉積(Pulsed Laser DeposiTION，簡稱PLD)是新近發(fā)展起來的一項技術(shù)，繼20世紀80年代末成功地制備出高臨界溫度的超導(dǎo)薄膜之后，它的優(yōu)點和潛力逐漸被人們認識和重視。
更新時間：2024-09-05
型號：LMBE450
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
瀏覽量：439
MARS iCE120 多片碳化硅外延系統(tǒng)，產(chǎn)能大，6 英寸運營成本低,薄膜和厚膜外延兼容，工藝穩(wěn)定性高。
更新時間：2024-09-05型號：MARS iCE120廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：360
Hesper I E430R 12英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)，優(yōu)異的氣流場和加熱場設(shè)計提供優(yōu)良的工藝性能。
更新時間：2024-09-05型號：Hesper I E430R廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：449
Hesper E230A 12英寸單片常壓硅外延系統(tǒng)，優(yōu)異的氣流場和加熱場設(shè)計提供優(yōu)良的工藝性能。
更新時間：2024-09-05型號：Hesper E230A廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：678
Hesper Ⅱ E630R plus 12英寸減壓選擇性外延系統(tǒng)，多區(qū)紅外加熱協(xié)同激光微區(qū)補償，溫場均勻可控。
更新時間：2024-09-05型號：Hesper Ⅱ E630R plus廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：645
Esther/Eris 系列 8英寸單片常壓/減壓硅外延系統(tǒng)，傳輸系統(tǒng)和工藝模塊設(shè)計可兼容多種工藝用途，友好的人機交互和安全性設(shè)計保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效，具有單腔和多腔兩種機型，可滿足不同客戶需求。
更新時間：2024-09-05型號：Esther/Eris 系列廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：405
網(wǎng)站首頁