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簡要描述：韓國G&P的全自動CMP晶圓清洗一體機是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機器。
產(chǎn)品型號：GNP GPC-300A廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2024-09-05訪 問 量： 161產(chǎn)品分類
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規(guī)格：
拋光機部分機頭，工作臺:30- 200rpm，旋轉(zhuǎn)運動，機頭振蕩(±15mm)
拋光機尺寸:寬1626 *寬1500 *高1950毫米
重量:約2500公斤壓板尺寸:Φ 762毫米(30英寸)，特氟龍涂層鋁
壓制方式:可變空氣
壓力電子控制器膜類型:70-350克/平方厘米(1 psi~5 psi)的12"晶圓片
CMP制程:Si CMP、氧化物CMP(BPSG、TEOS、SC)、金屬CMP(W、Cu)、STI、PGI等
可添加選項
墊式調(diào)理方法:擺頭式或擺臂式
單頭或雙頭系統(tǒng)
摩擦力和溫度監(jiān)測系統(tǒng)
清潔：
清洗機尺寸:w3050 / d1250 / h1960毫米
重量:約1200公斤電刷尺寸:270(外徑)032(內(nèi)徑)320(長)毫米
配置:獨立配置4個清洗工位，DIW刀預(yù)清洗，2個雙面滾刷清洗，N2吹旋漂干
預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗，工位間DIW帷幕清洗
輥刷工位
化學(xué)：nh4oh（<1%）或DIW
刷型:雙面PVA刷
轉(zhuǎn)速:<滿量程的±2%范圍30~300rpm
化學(xué)品供應(yīng):4個噴嘴和通過刷子
可用化學(xué):4化學(xué)
化學(xué)品流量:滿量程< 1l /min
DI流量:滿量程< 10l /min
轉(zhuǎn)站
旋轉(zhuǎn)速度:最高2500轉(zhuǎn)/分
DIW沖洗/ N2吹(可選:強掃)
控制
工藝:自動上片，自動順序，濕進/干出
程序控制:PC &觸摸屏監(jiān)控，程序可編程，計算機網(wǎng)絡(luò)可比
1. 規(guī)格
拋光機部分機頭，工作臺:30- 200rpm，旋轉(zhuǎn)運動，機頭振蕩(±15mm)
拋光機尺寸:寬1626 *寬1500 *高1950毫米
重量:約2500公斤壓板尺寸:Φ 762毫米(30英寸)，特氟龍涂層鋁
壓制方式:可變空氣
壓力電子控制器膜類型:70-350克/平方厘米(1 psi~5 psi)的12"晶圓片
CMP制程:Si CMP、氧化物CMP(BPSG、TEOS、SC)、金屬CMP(W、Cu)、STI、PGI等
2. 可添加選項
墊式調(diào)理方法:擺頭式或擺臂式
單頭或雙頭系統(tǒng)
摩擦力和溫度監(jiān)測系統(tǒng)
3. 清潔
清洗機尺寸:w3050 / d1250 / h1960毫米
重量:約1200公斤電刷尺寸:270(外徑)032(內(nèi)徑)320(長)毫米
配置:獨立配置4個清洗工位，DIW刀預(yù)清洗，2個雙面滾刷清洗，N2吹旋漂干
預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗，工位間DIW帷幕清洗
輥刷工位
化學(xué)：nh4oh（<1%）或DIW
刷型:雙面PVA刷
轉(zhuǎn)速:<滿量程的±2%范圍30~300rpm
化學(xué)品供應(yīng):4個噴嘴和通過刷子
可用化學(xué):4化學(xué)
化學(xué)品流量:滿量程< 1l /min
DI流量:滿量程< 10l /min
轉(zhuǎn)站
旋轉(zhuǎn)速度:高2500轉(zhuǎn)/分
DIW沖洗/ N2吹(可選:強掃)
控制
工藝:自動上片，自動順序，濕進/干出
程序控制:PC &觸摸屏監(jiān)控，程序可編程，計算機網(wǎng)絡(luò)可比
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