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快速退火爐

簡要描述:由德國UNITEMP研發(fā)的用于 200 毫米(8 英寸)晶圓尺寸或 M10 182 x 182 毫米太陽能硅片的快速退火爐RTP-200。

  • 產(chǎn)品型號:RTP-200
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2024-09-05
  • 訪  問  量: 199

詳細(xì)介紹

1 產(chǎn)品概述:

   快速退火爐,又稱RTPRapid Thermal Processing)快速熱處理爐,是一種用于快速熱處理、熱氧化處理、高溫退火等工藝的設(shè)備。它利用鹵素紅外燈等高效熱源,通過極快的升溫速率(可達(dá)150攝氏度/秒)和精確的溫控系統(tǒng),將晶圓或材料快速加熱到所需溫度(最高可達(dá)1200攝氏度),并在短時(shí)間內(nèi)完成退火過程,從而消除材料內(nèi)部缺陷,改善產(chǎn)品性能。快速退火爐廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、LED、MEMS、化合物半導(dǎo)體和功率器件等多種芯片產(chǎn)品的生產(chǎn)中,是現(xiàn)代微電子制造領(lǐng)域重要設(shè)備。

2 設(shè)備用途:

1、快速熱處理(RTP):用于對晶圓或材料進(jìn)行快速加熱和冷卻處理,以改善晶體結(jié)構(gòu)和光電性能。

2、快速退火(RTA):通過快速升溫和降溫過程,消除材料內(nèi)部的應(yīng)力、缺陷和雜質(zhì),提高材料的性能。

3 、熱氧化處理(RTO):在特定氣氛下對材料進(jìn)行加熱處理,形成所需的氧化物層。

4、離子注入/接觸退火:在離子注入后對材料進(jìn)行退火處理,以激活注入的離子并改善材料的電學(xué)性能。

5、 金屬合金化:如SiAu、SiAl、SiMo等合金的制備過程中,通過快速退火促進(jìn)合金化反應(yīng)。

6、 化合物合金制備:如砷化鎵、氮化物等化合物的合金制備過程中,快速退火爐也發(fā)揮著重要作用生。同時(shí),加熱還可以促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行,提高處理效果。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

1 高效加熱與快速升降溫:采用鹵素紅外燈等高效熱源,升溫速率快,最高可達(dá)150攝氏度/秒;降溫速率也快,如從1000攝氏度降到300攝氏度僅需幾分鐘。

2 高精度溫控系統(tǒng):采用先進(jìn)的微電腦控制系統(tǒng)和PID閉環(huán)控制溫度,控溫精度可達(dá)±0.5攝氏度,溫控均勻性≤0.5%設(shè)定溫度。

3 多功能性與靈活性:可根據(jù)用戶工藝需求配置真空腔體、多路氣體等,滿足不同工藝條件的需求。

4 低污染與環(huán)保:試樣反應(yīng)區(qū)處在一個(gè)密閉的石英腔體內(nèi),大大降低了間接污染試樣的可能性;同時(shí),設(shè)備在設(shè)計(jì)和制造過程中注重環(huán)保理念,減少了對環(huán)境的污染。

5 操作簡便與自動(dòng)化:配備可視化觸摸屏和智能控制系統(tǒng),設(shè)定數(shù)據(jù)和操作都是圖文界面,操作方便;同時(shí),可實(shí)現(xiàn)單臺或多臺電爐的遠(yuǎn)程控制、實(shí)時(shí)追蹤、歷史記錄、輸出報(bào)表等功能。4  設(shè)備參數(shù):

4 技術(shù)規(guī)格

適用于直徑達(dá) 200 毫米(8 英寸)的單個(gè)晶圓集成氣體入口和出口
高溫度:1000 °C
升溫速率:高達(dá) 50 K/(可選:100 K/
通過熱電偶控制溫度,無石英室、鋁室(可選配石英室)
尺寸:約 578 mm x 496 mm x 570 mm(寬 x x 高)
重量: 約 70 公斤
部件支架石英托盤,固定集成在門中

用于直徑為 200 mm 的單晶圓和石墨基座的石英支架

加熱

2 x 12 個(gè)紅外燈加熱(紅外加熱器的標(biāo)稱電壓/功率:230 V/2 kW
頂部和底部加熱(可選)
真空


壓力刻度 10exp-3 hPa RTP-200-HV 10exp-6 hPa

過程控制
• SPS
過程控制器,帶 50 個(gè)程序,每個(gè)程序多 50 個(gè)步驟(以太網(wǎng)接口),SIMATIC
觸摸面板上可存儲 50 個(gè)程序,每個(gè)程序多 50 個(gè)步驟 • USB 2.0 接口,用于存儲過程數(shù)據(jù)(CSV 文件格式)
包括 7 英寸觸摸屏,操作直觀舒適


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