1 產(chǎn)品概述:

   枚葉式PECVD設(shè)備（盡管此名稱可能非標(biāo)準(zhǔn)），作為PECVD技術(shù)的一種實(shí)現(xiàn)方式，其核心在于利用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積過(guò)程。該設(shè)備通過(guò)特定的氣體供應(yīng)系統(tǒng)引入反應(yīng)氣體，利用高頻或微波電源在反應(yīng)室內(nèi)產(chǎn)生等離子體，使氣體分子在等離子體中發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，最終在基底上沉積形成所需的薄膜材料。設(shè)備通常包括反應(yīng)室、氣體供應(yīng)系統(tǒng)、等離子體激發(fā)系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)和真空系統(tǒng)等關(guān)鍵部件。

2 設(shè)備用途：

枚葉式PECVD設(shè)備（或一般PECVD設(shè)備）的用途廣泛，主要包括但不限于以下幾個(gè)方面：

1. 半導(dǎo)體制造：用于生長(zhǎng)SiO2、SiNx等材料，作為MOSFET等半導(dǎo)體器件的絕緣層和通道層。

2. 光伏產(chǎn)業(yè)：制備非晶硅、多晶硅等薄膜，用于太陽(yáng)能電池的光吸收層和透明導(dǎo)電層。

3. 平板顯示器：制備低溫多晶硅薄膜，用于薄膜晶體管面板的薄膜電晶體。

4. 光學(xué)涂層：制備SiO2、Si3N4等材料，用于抗反射膜、硬質(zhì)涂層、光學(xué)濾波器等光學(xué)涂層的制備。

3 設(shè)備特點(diǎn)

枚葉式PECVD設(shè)備（基于PECVD技術(shù)的一般特點(diǎn)）可能具備以下特點(diǎn)：

1. 高效性：等離子體中的高能粒子能顯著加速化學(xué)反應(yīng)，提高薄膜的沉積速率和生產(chǎn)效率。

2. 高質(zhì)量：通過(guò)精確控制等離子體參數(shù)和工藝條件，可以制備出高質(zhì)量、高純度的薄膜材料。

3. 靈活性：適用于多種材料的薄膜制備，且可通過(guò)調(diào)整工藝參數(shù)實(shí)現(xiàn)薄膜性質(zhì)的精確調(diào)控。

4. 環(huán)保性：相比傳統(tǒng)化學(xué)沉積方法，PECVD在制備過(guò)程中通常不需要使用有害的化學(xué)試劑，減少了環(huán)境污染。

4 技術(shù)參數(shù)和特點(diǎn)：

•27.12MHz高密度等離子制程

•SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：可對(duì)應(yīng)SiO2膜

•以NF3+Ar Plasma實(shí)現(xiàn)腔體清潔功能

•可對(duì)應(yīng)有機(jī)EL（OLED）的低溫成膜用heater

•使用Tray大可搬送□200mm(CME-200E)的基板尺寸(CME-400:可對(duì)應(yīng)300×400)