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等離子體增強型CVD系統(tǒng)

簡要描述:PD-200STL是一種用于研發(fā)的低溫(80~400℃)、高速(>300nm/min)等離子體增強型CVD系統(tǒng)。Samco的液態(tài)源CVD系統(tǒng)采用自偏置沉積技術和液態(tài)TEOS源,以低應力沉積SiO2薄膜,從薄膜到厚的薄膜(高達100μm)。PD-200STL具有時尚、緊湊的設計,只需要小的潔凈室空間。

  • 產(chǎn)品型號:PD-200STL
  • 廠商性質:經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-06
  • 訪  問  量: 284

詳細介紹

1. 產(chǎn)品概述

PD-200STL是一種用于研發(fā)的低溫(80~400℃)、高速(>300nm/min)等離子體增強型CVD系統(tǒng)。Samco的液態(tài)源CVD系統(tǒng)采用自偏置沉積技術和液態(tài)TEOS源,以低應力沉積SiO2薄膜,從薄膜到厚的薄膜(高達100μm)。PD-200STL具有時尚、緊湊的設計,只需要小的潔凈室空間。

2. 設備用途/原理

塑料材料上保護膜的沉積在3D LSI的通孔側壁上沉積絕緣膜。光波導的制造(光纖芯/包層)。制造用于微型機械生產(chǎn)的面罩。覆蓋高縱橫比結構,如MEMS器件。SAW設備的溫度補償膜和鈍化膜。

3. 設備特點

加工范圍達?200毫米(8")。陰耦合自偏析沉積技術可以實現(xiàn)低應力薄膜的高速(>300nm/min)沉積。通過低溫沉積,可以在塑料表面上沉積薄膜。高縱橫比結構的優(yōu)秀階梯覆蓋率,使用鍺、磷、硼液源控制折射率。PD-200STL設計時尚、緊湊,只需要小的潔凈室空間。


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