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Laurell的EDC-650-15B型勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進(jìn)的功能。這款650系列EDC系統(tǒng)將可容納高達(dá)300mm的晶圓和9英寸×9英寸（229mm×229mm）基板。雖然這個(gè)系統(tǒng)有12,000RPM的能力帶真空壓緊裝置，建議僅用于3,000RPM和非真空吸盤。

Laurell的EDC-650-8B勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能。這款650系列EDC系統(tǒng)將可容納最大200mm晶圓和7英寸×7英寸（178mm×178mm）基板。雖然這個(gè)系統(tǒng)有12,000RPM的能力帶真空壓緊裝置，建議僅用于3,000RPM和非真空吸盤。

Laurell的EDC-650-23B型勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進(jìn)的功能。這款650系列EDC系統(tǒng)將可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127mm×127mm）基板。雖然這個(gè)系統(tǒng)有12,000RPM的能力帶真空壓緊裝置，建議僅用于3,000RPM和非真空吸盤。

Laurell的WS-650-15B型勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進(jìn)的功能。這款650系列系統(tǒng)將可容納高達(dá)300mm的晶圓和9英寸×9英寸（229mm×229mm）基板，最大轉(zhuǎn)速為12,000RPM（基于100mm硅片）。

產(chǎn)品概述： 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等組成。 設(shè)備用途： 脈沖激光沉積(Pulsed Laser DeposiTION，簡(jiǎn)稱PLD)是新近發(fā)展起來的一項(xiàng)技術(shù)，繼20世紀(jì)80年代末成功地制備出高臨界溫度的超導(dǎo)薄膜之后，它的優(yōu)點(diǎn)和潛力逐漸被人們認(rèn)識(shí)和重視。該項(xiàng)技術(shù)在生成復(fù)雜的化合物薄膜方面得到了非常好的結(jié)果。

產(chǎn)品概述： 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、抗氧化基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。 設(shè)備用途： 用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研。