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深硅刻蝕機(jī)PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕，同時(shí)兼具Bosch/Non-Bosch工藝，實(shí)現(xiàn)多工藝領(lǐng)域覆蓋。該機(jī)臺(tái)針對(duì)Bosch循環(huán)工藝方式采用專業(yè)先進(jìn)的快速響應(yīng)硬件配置及軟件流程控制，結(jié)合先進(jìn)的工藝技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)超高深寬比下良好的工藝性能，配置多腔平臺(tái)，滿足大產(chǎn)能量產(chǎn)使用需求。
更新時(shí)間：2024-09-06
型號(hào)：PSE V300
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
瀏覽量：337
深硅刻蝕機(jī)HSE P300主要用于12英寸硅刻蝕。采用Cluster結(jié)構(gòu)布局，能夠減小占地，提升產(chǎn)能。系統(tǒng)主要由傳輸模塊、工藝模塊、灰區(qū)部件、電源柜等組成。可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化地上下料及自動(dòng)工藝。HSE M200主要用于4/6/8英寸深硅干法刻蝕工藝?？梢耘渲檬謩?dòng)及自動(dòng)傳輸系統(tǒng)。產(chǎn)品配置高密度雙立體等離子體源，中心邊緣進(jìn)氣，快速氣體切換，低頻脈沖下電極系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)高速、高深寬比及極小的側(cè)壁粗糙度。
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：HSE系列廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：336
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更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：KaRoll RTR1C廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：192
卷對(duì)卷薄膜濺射系統(tǒng)是在真空狀態(tài)下用于micro phone的厚度為4u Film的Gold(AU)做Sputtering的設(shè)備.
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：Roll to Roll Sputtering廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：228
部件鍍膜設(shè)備是在真空狀態(tài)下在產(chǎn)品外部涂層非導(dǎo)電體的Coating設(shè)備，由真空內(nèi)產(chǎn)品做著自傳，公轉(zhuǎn),并能保持一定的膜厚度.
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：KaRon 設(shè)備廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：208
部件鍍膜設(shè)備實(shí)現(xiàn)高大量生產(chǎn)率的高真空基礎(chǔ)In-line Sputter
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：Batch Type廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：226
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