1 產(chǎn)品概述:

   新型離子槍結合了空心陽極離子槍和磁控管離子槍的優(yōu)勢，通過結構設計和技術集成，實現(xiàn)了對材料表面高效、精確的處理能力。該設備集成了離子源、加速電極、聚焦透鏡和控制電源等關鍵部件，能夠產(chǎn)生并發(fā)射高能量、高密度的離子束，滿足各種復雜工藝需求。

2 設備用途：

1. 薄膜沉積：新型離子槍可用于在基材上沉積各種金屬、非金屬及合金薄膜，如鎢超細結構薄膜。這些薄膜在電子器件、光學元件、太陽能電池等領域具有廣泛應用。

2. 表面清潔與刻蝕：通過離子束的轟擊作用，可以去除材料表面的污染物、氧化物等雜質，實現(xiàn)表面清潔。同時，離子束還能對表面進行精細刻蝕，形成所需的微納結構。

3. 深度分析：在樣品表面分析中，新型離子槍可用于表面刻蝕和深度剖析，揭示材料內部的成分和結構信息。

4. 涂層與改性：利用離子束的沉積和改性作用，可以在材料表面形成具有特定功能的涂層，如防腐、耐磨、導電等涂層。

3 設備特點

  高效性：新型離子槍結合了空心陽極離子槍和磁控管離子槍的優(yōu)點，具有更高的離子束能量密度和更快的物料反應速度，從而提高了處理效率。

  精確性：通過精確控制離子束的能量、束斑大小和掃描路徑，可以實現(xiàn)對材料表面的精細處理，滿足高精度加工需求。

  多功能性：該設備不僅可用于薄膜沉積、表面清潔與刻蝕等傳統(tǒng)應用，還可拓展至表面改性、深度分析等新興領域。
4 技術參數(shù)和特點：

可以簡單地進行粒徑1nm以下的鎢超微粒子的包覆。

   通過使用Ar離子的離子束濺射法沉積的鎢膜的粒徑為0.2nm～0.5nm。即使在700,000倍SEM觀察中也沒有觀察到顆粒感，非常適合高倍率觀察。樣品表面溫度在50℃以下，因此可以進行熱損傷小的涂層。可以在短時間內涂層。（真空度達到1Pa后所需時間3～5分鐘）

  可以繞入，狹窄的間隙也可以進行涂層和附著力優(yōu)良的涂層。可以得到不易附著污染的涂膜。目標，標準準備了鎢，根據(jù)您的要求可以換成各種目標材料。

   可選：也可以蝕刻。