超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜

Beneq C2R 是我們集群兼容設(shè)備系列的空間 ALD 成員。

Beneq C2R 將等離子體增強(qiáng)原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個(gè)全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強(qiáng)旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達(dá)幾微米。

Beneq C2R 為光學(xué)鍍膜和阻隔層等工業(yè)應(yīng)用中的高性能原子層沉積 （ALD） 提供最佳解決方案。

當(dāng)速度、成本、低工藝溫度和盡可能高的薄膜質(zhì)量是驅(qū)動(dòng)因素時(shí)，Beneq C2R 是理想的產(chǎn)品。

技術(shù)亮點(diǎn)

• 超高沉積速率，高達(dá)每小時(shí)幾微米

• 批量 PEALD 工藝，適用于多達(dá) 7 個(gè) 200 mm 晶圓

• 適用于厚度達(dá) 30 mm 的鏡頭和其他 3D 基板

• 膜厚均勻性高，適用于要求苛刻的光學(xué)鍍膜應(yīng)用

• 可配備負(fù)載鎖或晶圓自動(dòng)化。

自動(dòng)化選項(xiàng)

Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信賴的 MX400 傳輸模塊的自動(dòng)化選項(xiàng)。自動(dòng)化服務(wù)包括：

• Brooks MX400 基于集群的模塊

• 雙臂掃地機(jī)器人

• 樣品對(duì)準(zhǔn)器

• 可選預(yù)熱和冷卻