離子束沉積

簡要描述：離子束沉積產(chǎn)品是因?yàn)樗鼈兡軌蛏a(chǎn)具有高質(zhì)量，致密和表面光滑的沉積薄膜。離子束技術(shù)提供了一種多樣的刻蝕和沉積的方法，并可在同一設(shè)備上實(shí)現(xiàn)，因而提高系統(tǒng)的利用率。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項(xiàng)，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對(duì)盒式模式。系統(tǒng)規(guī)格與實(shí)際應(yīng)用緊密協(xié)調(diào)，以確保獲得速率更快且重復(fù)性更好的工藝結(jié)果。

產(chǎn)品型號(hào)：Ionfab 300 IBD
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2024-08-12
訪問量： 334

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詳細(xì)介紹

多模式功能
能夠與其它等離子體刻蝕和沉積設(shè)備相集成
單晶圓傳送模式或集群式晶圓操作
雙束流配置
更低的表面薄膜粗糙度
更佳的批次均勻性和工藝重復(fù)性
準(zhǔn)確終點(diǎn)監(jiān)測 —— SIMS，發(fā)射光譜
產(chǎn)品特點(diǎn)
質(zhì)量薄膜高 ——超低污染
產(chǎn)量高，緊湊的系統(tǒng)體積設(shè)計(jì)-——運(yùn)行成本低
高速襯底架（高達(dá)1000RPM）設(shè)計(jì)，并配備了白光光學(xué)監(jiān)視器（WLOM）——更為精確的實(shí)時(shí)光學(xué)薄膜控制
配置靈活 ——適于先進(jìn)的研究應(yīng)用
靈活的晶圓操作方式 —— 直開式、單晶圓傳送模式或者帶機(jī)械手臂的盒對(duì)盒模式
應(yīng)用
磁阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器（MRAM）
介電薄膜
III-V族光電子材料刻蝕
自旋電子學(xué)
金屬電極和軌道
超導(dǎo)體
激光端面鍍膜
高反射（HR）膜
防反射（AR）膜
環(huán)形激光陀螺反射鏡
X射線光學(xué)系統(tǒng)
紅外（IR）傳感器
II-VI族材料
通信濾波器