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簡(jiǎn)要描述：RIE-200C RIE等離子刻蝕設(shè)備是在擁有豐富交貨業(yè)績(jī)的CCP RIE系統(tǒng) “RIE-10NR “的基礎(chǔ)上開(kāi)發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對(duì)Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜進(jìn)行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機(jī)械手，PLC控制全自動(dòng)操作，高性能存儲(chǔ)工藝參數(shù)，實(shí)現(xiàn)了高產(chǎn)量。
產(chǎn)品型號(hào)：RIE-200C廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商更新時(shí)間：2024-09-06訪 問(wèn) 量： 381產(chǎn)品分類(lèi)
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1. 產(chǎn)品概述
RIE-200C是在擁有豐富交貨業(yè)績(jī)的CCP RIE系統(tǒng) "RIE-10NR "的基礎(chǔ)上開(kāi)發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對(duì)Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜進(jìn)行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機(jī)械手，PLC控制全自動(dòng)操作，高性能存儲(chǔ)工藝參數(shù)，實(shí)現(xiàn)了高產(chǎn)量。
2. 設(shè)備用途/原理
Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜的高精度蝕刻。光阻劑的灰化、剝離、除塵，清除有機(jī)污染物。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
大氣高速傳輸系統(tǒng)，該系統(tǒng)配備了一個(gè)大氣盒室和一個(gè)大氣傳輸機(jī)器人，而不是通常的裝載鎖定室。它可以處理大?8 "晶圓的自動(dòng)加工，并且可以安裝在兩個(gè)盒式箱中。全自動(dòng)操作，通過(guò)觸摸屏可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)操作，通過(guò)PLC控制可實(shí)現(xiàn)過(guò)程管理和數(shù)據(jù)記錄。
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