當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導體前道工藝設備 > 5 刻蝕設備 > ELEDE® 380系列芯片刻蝕機
簡要描述:ELEDE® 380系列 芯片刻蝕機,先進的等離子體發(fā)生裝置,適用多種材料刻蝕,工藝窗口寬。
產(chǎn)品分類
Product Category相關文章
Related Articles詳細介紹
1. 產(chǎn)品概述
ELEDE® 380系列 芯片刻蝕機,先進的等離子體發(fā)生裝置,適用多種材料刻蝕,工藝窗口寬。
2. 設備用途/原理
先進的等離子體發(fā)生裝置,適用多種材料刻蝕,工藝窗口寬。多片式托盤,實現(xiàn)高產(chǎn)能,同時確保優(yōu)異的刻蝕均勻性。全路徑全真空,全自動晶圓傳輸,顆??刂苾?yōu)。工藝套件設計,更長的耗材壽命。
3. 設備特點
晶圓尺寸4、6 英寸及特殊尺寸。適用材料 藍寶石、氮化鎵、氧化硅 / 氧化鈦、砷化鎵、磷化鎵、鋁鎵銦磷、氧化硅、氮化硅、鈦鎢、有機物。適用工藝 PSS 刻蝕、電刻蝕、深槽隔離刻蝕、介質反射層(DBR)刻蝕、紅黃光刻蝕、鈍化層刻蝕、金屬阻擋層刻蝕。適用域化合物半導體。
產(chǎn)品咨詢