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高密度等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)

簡要描述:Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品型號:Orion Proxima
  • 廠商性質:經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-05
  • 訪  問  量: 374

詳細介紹

1. 產(chǎn)品概述

Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)。

2. 設備用途/原理

Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統(tǒng),填孔能力以及高沉積速率,溫度場和 ICP 電磁場設計保證了低溫高致密的膜質表現(xiàn),優(yōu)化機臺結構,縮小占地面積,友好的人機交互和安全性設計保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效。

3. 設備特點

晶圓尺寸 12 英寸,適用材料氧化硅。適用工藝淺溝槽隔離、金屬間介質層、鈍化層。適用域 新興應用、集成電路。等離子體化學氣相沉積(plasmachemical vapor deposition)是指用等離子體激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態(tài)膜的技術。按產(chǎn)生等離子體的方法,分為射頻等離子體、直流等離子體和微波等離子體CVD等。

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