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簡要描述:Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)。
產(chǎn)品分類
Product Category詳細介紹
1. 產(chǎn)品概述
Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)。
2. 設備用途/原理
Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統(tǒng),填孔能力以及高沉積速率,溫度場和 ICP 電磁場設計保證了低溫高致密的膜質表現(xiàn),優(yōu)化機臺結構,縮小占地面積,友好的人機交互和安全性設計保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效。
3. 設備特點
晶圓尺寸 12 英寸,適用材料氧化硅。適用工藝淺溝槽隔離、金屬間介質層、鈍化層。適用域 新興應用、集成電路。等離子體化學氣相沉積(plasmachemical vapor deposition)是指用等離子體激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態(tài)膜的技術。按產(chǎn)生等離子體的方法,分為射頻等離子體、直流等離子體和微波等離子體CVD等。
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