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我們的 Fiji® 系列是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統(tǒng)，采用靈活的架構(gòu)和多種前驅(qū)體和等離子體氣體配置，可適應(yīng)各種沉積模式。Fiji G2 是下一代 ALD 系統(tǒng)，能夠執(zhí)行熱成像和等離子體增強(qiáng)沉積。

Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門級沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積，提供了實(shí)惠的價格點(diǎn)，同時保持了您期望從 KJLC 獲得的質(zhì)量。

用于高級研究的先進(jìn)能力 Veeco 是原子層沉積 （ALD） 系統(tǒng)供應(yīng)商，為研究和工業(yè)提供全面的服務(wù)和多功能的交鑰匙系統(tǒng)，這些系統(tǒng)易于訪問、經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且精確到原子尺度。薄膜沉積是我們的專長。我們的 Savannah® 系列薄膜沉積工具就是這些能力的例證。

Phoenix®系統(tǒng)經(jīng)過精心設(shè)計，可在從中試生產(chǎn)到工業(yè)級制造的任何制造環(huán)境中實(shí)現(xiàn)高吞吐量和最長的正常運(yùn)行時間。技術(shù)人員和研究人員依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上實(shí)現(xiàn)可重復(fù)、高精度的薄膜沉積。Phoenix®支持多達(dá)6條獨(dú)立的前驅(qū)體生產(chǎn)線，可根據(jù)您的薄膜需求提供固體、液體或氣體工藝化學(xué)成分。緊湊的占地面積和創(chuàng)新的設(shè)計使Phoenix®成為具有批量生產(chǎn)ALD要求的人們的實(shí)用選擇。

GEN2000® MBE 系統(tǒng)提供吞吐量、更長的活動周期、更小的占地面積和集群工具晶圓處理。它是 HBT 和 pHEMT 等無線通信設(shè)備大批量生產(chǎn)以及需要以低擁有成本生產(chǎn) 6 英寸的新興應(yīng)用的理想選擇。

Veeco 的 GEN200® MBE 系統(tǒng)是當(dāng)今市場上具成本效益和高容量的多 4 英寸生產(chǎn) MBE 系統(tǒng)。該系統(tǒng)在用于泵浦激光器、VCSEL 和 HBT 等設(shè)備的生長中提供吞吐量、長時間的加工周期和出色的晶圓質(zhì)量。