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更新時(shí)間：2024-09-04
型號(hào)：Nikon S206D
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
瀏覽量：319
1、Nikon S205C掃描式光刻機(jī) 光源波長(zhǎng)248nm 分辨率優(yōu)于0.15µm 主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線 廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域 2、產(chǎn)品詳情 主要技術(shù)指標(biāo) 分辨率0.15µm N.A.0.75 曝光光源248nm 倍率4:1 最大曝光現(xiàn)場(chǎng)25mm*33mm 對(duì)準(zhǔn)精度 LSA：35nm FIA：40nm
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：Nikon S205C廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：442
1、Nikon S204B掃描式光刻機(jī) 光源波長(zhǎng)248nm 分辨率優(yōu)于0.18µm 主要用于4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線 廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域 2、產(chǎn)品詳情 主要技術(shù)指標(biāo) 分辨率0.18µm N.A.0.68 曝光光源248nm 倍率4:1 最大曝光現(xiàn)場(chǎng)25mm*33mm 對(duì)準(zhǔn)精度 LSA：40nm FIA：45nm
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：Nikon S204B廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：612
1、Nikon S203B掃描式光刻機(jī) 光源波長(zhǎng)248nm 分辨率優(yōu)于0.2µm 主要用于4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線 廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域 2、產(chǎn)品詳情 主要技術(shù)指標(biāo) 分辨率0.2µm N.A.0.68 曝光光源248nm 倍率4:1 最大曝光現(xiàn)場(chǎng)25mm*33mm 對(duì)準(zhǔn)精度 LSA：45nm FIA：50nm
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：Nikon S203B廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：293
1、Nikon EX14C步進(jìn)式光刻機(jī) 光源波長(zhǎng)248nm 分辨率優(yōu)于0.25µm 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線 廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域 2、產(chǎn)品詳情 主要技術(shù)指標(biāo) 分辨率0.25µm N.A.0.6 曝光光源248nm 倍率5:1 最大曝光現(xiàn)場(chǎng)22mm*22mm 對(duì)準(zhǔn)精度 LSA：55nm FIA：65nm
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：Nikon EX14C廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：282
1、Nikon EX12B步進(jìn)式光刻機(jī) 光源波長(zhǎng)248nm 分辨率優(yōu)于0.3µm 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線 廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域 2、產(chǎn)品詳情 主要技術(shù)指標(biāo) 分辨率0.3µm N.A.0.55 曝光光源248nm 倍率5:1 最大曝光現(xiàn)場(chǎng)22mm*22mm 對(duì)準(zhǔn)精度 LSA：55nm FIA：65nm
更新時(shí)間：2024-09-04型號(hào)：Nikon EX12B廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：234
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