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掃描式光刻機

簡要描述:1、Nikon S206D掃描式光刻機
光源波長248nm
分辨率優(yōu)于0.12µm
主要用于8寸及12寸生產線
廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域
2、產品詳情
主要技術指標
分辨率0.12µm
N.A.0.82
曝光光源248nm
倍率4:1
最大曝光現場25mm*33mm
對準精度
20nm

  • 產品型號:Nikon S206D
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-09-04
  • 訪  問  量: 318

產品分類

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詳細介紹

一、產品概述:

Nikon S206D 掃描式光刻機是一款高效的半導體制造設備,專為 200mm 晶圓的生產而設計。該機型采用先進的掃描光刻技術,能夠實現高分辨率和高精度的圖案轉移,廣泛應用于集成電路、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其快速的曝光速度和良好的穩(wěn)定性,S206D 適合大批量生產,同時友好的操作界面和自動化功能降低了操作難度,提升了用戶體驗。這使得 Nikon S206D 成為現代半導體制造過程中重要工具,滿足行業(yè)對高質量和高效率的需求。

二、設備用途/原理:

該設備通過高強度光源將掩模上的圖案投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長的光線,經過高分辨率光學系統(tǒng),將掩模圖案精確掃描并投影到晶圓上。曝光后,光刻膠的化學性質發(fā)生變化,隨后進行顯影,去除未曝光或已曝光的光刻膠,從而形成所需的圖案。接著,采用刻蝕工藝將圖案轉移到晶圓材料上,最后去除殘留的光刻膠。這一系列步驟使得 Nikon S206D 能夠高效地實現復雜圖形的精確轉移,滿足現代半導體制造的高標準要求。

三、主要技術指標

分辨率

0.12µm

N.A.

0.82

曝光光源

248nm

倍率

4:1

大曝光現場

25mm*33mm

對準精度

20nm

四、設備特點

Nikon S206D掃描式光刻機

光源波長248nm

分辨率優(yōu)于0.12µm

主要用于8寸及12寸生產線

廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等



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