一、產(chǎn)品概述：

 Nikon NSR 2005i10C步進式光刻機是一款高精度的半導體制造設(shè)備，該機型采用先進的步進光刻技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率和高精度的圖案轉(zhuǎn)移，廣泛應(yīng)用于集成電路（IC）、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其良好的成像質(zhì)量和快速的曝光速度，Nikon NSR 2005i10C非常適合大批量生產(chǎn)，同時其用戶友好的操作界面和高效的自動化功能提升了生產(chǎn)效率。這使得Nikon NSR 2005i10C成為現(xiàn)代半導體制造過程中的重要工具，滿足行業(yè)對高質(zhì)量和高效率的需求。

二、設(shè)備用途/原理：

該設(shè)備通過高強度光源將掩模上的圖案逐步投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長的光線，經(jīng)過高分辨率光學系統(tǒng)，精確地將掩模圖案投影到晶圓上進行曝光。曝光后，光刻膠的化學性質(zhì)發(fā)生變化，隨后進行顯影，去除未曝光或已曝光的光刻膠，從而形成所需的圖案。接著，利用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上，最后去除殘留的光刻膠。通過這一系列步驟，Nikon NSR 2005i10C能夠高效地實現(xiàn)復(fù)雜圖形的精確轉(zhuǎn)移，滿足現(xiàn)代半導體制造的高標準要求。

三、主要技術(shù)指標：

四、設(shè)備特點

Nikon NSR 2005i10C步進式光刻機

光源波長365nm

分辨率優(yōu)于0.45µm

主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線

廣泛應(yīng)用于化合物半導體、MEMS、LED等