當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 1 光刻設(shè)備 > GL6 R&D納米壓印系統(tǒng)
簡要描述:納米壓印系統(tǒng) 簡介:1. 兼容基底尺寸:直徑≤100mm2. 支持基底材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等3. 納米壓印技術(shù):旋涂膠基底高精度壓印&點(diǎn)膠自動找平壓印、旋涂膠基底壓印、點(diǎn)膠自動找平壓印模式4. 壓印精度:優(yōu)于10nm5. 結(jié)構(gòu)深寬比:優(yōu)于10:1
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一、產(chǎn)品介紹:
1. 兼容基底尺寸:直徑≤100mm
2. 支持基底材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
3. 納米壓印技術(shù):旋涂膠基底高精度壓印&點(diǎn)膠自動找平壓印、旋涂膠基底壓印、點(diǎn)膠自動找平壓印模式
4. 壓印精度:優(yōu)于10nm
5. 結(jié)構(gòu)深寬比:優(yōu)于10:1
6. 殘余層控制:可小于10nm 微米級TTV控制精度
7. 紫外固化光源:紫外LED(365nm)面光源,光強(qiáng)>300mW/cm2
8. 自動壓印/自動脫模/自動工作模具復(fù)制/主動找平壓印/模自動點(diǎn)膠:支持
9. 模具基底對位系統(tǒng):手動對位(選配)
10. 上下片方式:手動上下片
二、技術(shù)優(yōu)勢:
隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料,包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結(jié)構(gòu)、微透鏡陣列、勻光片結(jié)構(gòu)等工藝流程,幫助客戶零門檻達(dá)到國際納米壓印水平。
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