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離子研磨系統(tǒng) 產(chǎn)品概述： 為了對樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)進(jìn)行觀察、分析，必須讓樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)顯露出來，日立離子研磨裝置使用大面積低能量的Ar離子束，加工出無應(yīng)力損傷的截面，為SEM觀察樣品的內(nèi)部多層結(jié)構(gòu)、結(jié)晶狀態(tài)、 異物解析、層厚測量等提供有效的前處理方法。

半導(dǎo)體參數(shù)測試儀概述：配備集成電腦及顯示屏一體機(jī)箱，包含高精度電流測量模塊、電容測量模塊、超快脈沖模塊，配合專用數(shù)據(jù)測量分析軟件，無需外接其他儀表即可實現(xiàn)I-V曲線，I-t曲線，C-V曲線及C-f曲線的測量并能在屏幕實時顯示測量結(jié)果。具有瞬態(tài)波形捕獲模式和任意波形發(fā)生器，支持多電平脈沖波形，可編程分辨率10 ns 。

掃描隧道顯微鏡 技術(shù)優(yōu)勢： 第三代的一個關(guān)鍵特征是液態(tài)氦保持時間增加 30%。 這對于所有低溫實驗都有很大的優(yōu)勢，降低了運行成本，并為用戶提供了更多的靈活性。 新型低溫器設(shè)計可實現(xiàn)長期光譜實驗，而不會影響 LT STM 始終提供的穩(wěn)定性。

TEM Mill 精密離子減薄儀 功能介紹： 1. 樣品載臺X-Y可調(diào)，可根據(jù)需要調(diào)整樣品減薄位置 2. 具備原位實時觀察及記錄減薄過程功能 3. 樣品可360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)或搖擺，離子束自動避讓樣品夾 4. 可通過時間、溫度以及透光性自動停止 5. 可選液氮冷臺配置，去除熱效應(yīng)對樣品的損傷 6.可選真空或惰性氣體轉(zhuǎn)移裝置，隔絕樣品與水氧接觸

電子萬能試驗機(jī) 產(chǎn)品簡述： MTS Criterion40系列測試系統(tǒng)采用高速率、低振動電機(jī)驅(qū)動裝置和集成、數(shù)字閉環(huán)控制裝置，在1N到100kN范圍內(nèi)實現(xiàn)力控、位移控或應(yīng)變控的試驗。

熱翹曲系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù)： 1. 最大樣品尺寸 : 400 mm x 400 mm 2. 最小樣品尺寸 : 0.5 mm x 0.5 mm 3. 在 2 秒內(nèi)獲得 140 萬個數(shù)據(jù)點 4. Warpage 分辨率 1 µm 5. 最高每秒加熱 3.5ºC 攝氏度 6. 紅外線加熱和對流冷卻來控制溫度